LSI やディスプレイの回路パターンを形成した原版をフォトマスクと呼びます．これは透明なガラス基板上にクロムなどの光を通さない素材でパターンを形成したもので，半導体露光装置によって写真のネガ・フィルムのようにシリコン・ウェハ上に設計パターンを転写します．シリコン・ウェハにはフォトレジストと呼ばれる感光剤が塗布され，フォトマスク露光装置によってパターンが描画されます．